03.02.04.00.00: Приборы для обработки поверхности материалов
Федеральный каталог высокотехнологичного оборудования и объектов научного потенциала России

Приборы для обработки поверхности материалов

 1.  Автоматизированная установка магнетронного напыления Caroline D12С (Эсто-Вакуум)
Предназначена для вакуумного и магнетронного напыления на любые плоские (толщина не более 30 мм) подложки Ø до 150 мм. (максимальная плоскость обрабатываемых изделий 150х650 мм). Данная установка предназначена для серийного производства больших объемов. Магнетроны (от 1 до 4-х шт. ) устанавливаются внутри барабана. Напыление ведётся, вертикально распыляя материал на внутреннюю сторону носителей вращающихся на барабане. Установка комплектуется магнетронами от одного до четырёх штук для распыления любых материалов, будь то резистивные сплавы, Cu, Cr, Ni, Al и т. п. Допустима работа источника ионов совместно с магнетроном на смеси газов. Размер мишеней (могут использоваться составные мишени не прямого охлаждения), 749х100х6÷ 15 мм.
 2.  Установка магнетронного напыления Caroline D12B1 (Эсто-Вакуум)
Предназначена для двустороннего магнетронного напыления на керамические, кремниевые и любые плоские (толщина не более 30 мм. ) подложки размером до Ø 150 мм (максимальная плоскость обрабатываемых изделий 150х350 мм). Установка комплектуется 7-ю магнетронами, которые установлены 4 шт. внутри барабана и 3 шт. снаружи в специальных дверях. Таким образом, напыление ведётся вертикально, нанося материал на внешнюю и внутреннюю стороны носителей вращающихся на барабане. Установка комплектуется магнетронами для распыления любых материалов, например, резистивные сплавы Cu, Cr, Ni, Al и т. п. Автономное управление заслонками на позициях напыления (одновременно могут быть открыты пары магнетронов в позициях 1 и 3 либо в позициях 2 и 4).
 3.  Установка магнетронного напыления Caroline D12B (Эсто-Вакуум)
Предназначена для магнетронного напыления на керамические, кремниевые и любые плоские (толщина не более 30 мм. ) подложки размером до Ø 150 мм. (максимальная плоскость обрабатываемых изделий 150х350 мм). Магнетроны (от 1 до 4-х шт. ) устанавливаются внутри барабана. Напыление ведётся, вертикально распыляя материал на внутреннюю сторону носителей вращающихся на барабане. Установка комплектуется магнетронами от одного до четырёх штук для распыления любых материалов, например: резистивные сплавы, Cu, Cr, Ni, Al и т. п.
 4.  Автоматизированная установка магнетронного, термического и ионно-лучевого напыления Caroline D12A1 (Эсто-Вакуум)
Предназначена для магнетронного, термического и ионно-лучевого напыления на керамические, кремниевые, ситаловые и другие плоские (толщина не более 30 мм. ) подложки размером до Ø 100 мм. Мишени на магнетронах располагаются горизонтально. Над ними располагается карусель, вращающаяся в горизонтальной плоскости. На карусели размещены носители, в которых закреплены подложки. Обработка изделий производится в горизонтальной плоскости, материал распыляется снизу вверх. При двусторонней обработке во время вращения карусели специальное устройство поочереди поворачивает носитель с закрепленным в нем изделием на 180˚ относительно своей оси.
 5.  Установка магнетронного, термического и ионно-лучевого напыления Caroline D12A (Эсто-Вакуум)
Предназначена для магнетронного, термического и ионно-лучевого напыления на керамические, кремниевые, ситаловые и другие плоские (толщина не более 30 мм. ) подложки Ø до 100 мм. Мишени на магнетронах располагаются горизонтально. Над ними располагается карусель, вращающаяся в горизонтальной плоскости. На карусели размещены носители, в которых закреплены подложки. Обработка изделий производится в горизонтальной плоскости, материал распыляется с низу вверх. Установка может быть укомплектована любым набором технологических устройств на пяти рабочих позициях: магнетрон (от 1-го до 5-ти шт. ), источник ионов (для предварительной очистки и травления подложек), термический испаритель и устройство ионного распыления (занимает две позиции).
 6.  Установка магнетронного напыления SOLVAC (Эсто-Вакуум)
Предназначена для нанесения металлических покрытий методом магнетронного нанесения и диэлектрических покрытий методом реактивного магнетронного нанесения c предварительной ионной очисткой поверхности. Установка представляет собой цилиндрическую камеру, установленную на раме. Камера состоит из трех секций. Правая секция отъезжает, позволяя вести загрузку-выгрузку изделий на тележку. На левой секции смонтирована вакуумная система. В центральной секции установлены технологические устройства: три магнетрона (в качестве опции вместо одного из магнетронов может быть установлен ламповый нагреватель), источник ионов и транспортная система тележки. Тележка (рабочий стол 1500х900) с загруженными изделиями имеет возможность сканировать под технологическими устройствами. На изделие может быть подано электрическое смещение. Технологические устройства установлены на телескопических направляющих, облегчает их обслуживание. Вакуумная система установки построена на базе криогенного насоса и сухого форвакуумного насоса. В качестве опции может быть установлен второй криогенный насос для снижения предельного давления. Система газонапуска трехканальная.
 7.  Установка магнетронного напыления Irida D21A (Эсто-Вакуум)
Позволяет наносить на подложку диаметром до 200 мм покрытия путем магнетронного распыления мишеней из электропроводных материалов, а так же диэлектрических в случае использования высокочастотных блоков питания. Поддерживается режим реактивного распыления. Поочередно в одном технологическом цикле могут использоваться четыре магнетрона. Четыре магнетрона установленные на крышке камеры могут перемещаться от стенки камеры к ее центру с помощью электроприводов. В парковочном положении у стенки камеры магнетроны могут закрываться индивидуальными управляемыми заслонками. Магнетрон, совершающий напыление, двигается от стенки камеры к центру и обратно. Подложка при этом находится на вращающемся столе. Управляя скоростью магнетрона и стола, мы управляем равномерностью нанесения пленки. Могут применяться магнетроны с мишенями 1, 2 и 3 дюйма, в зависимости от ваших приоритетов: стоимость мишени или скорость напыления. Рабочий стол вращающийся, нагреваемый с вертикальным лифтом.
 8.  Установка магнетронного напыления ЭТНА-М (AFMHD)
Предназначена для осаждения металлических слоев. Реактор выполнен из нержавеющей стали с верхним фланцем, несущим на себе функцию нагрева образцов. На нижнем фланце располагается водоохлаждаемый магнетрон с питанием постоянным током. Ориентирована на лабораторное исследовательское и образовательное применение, а также мелкосерийное производство.
 9.  Установка вакуумного напыления Auto 500 (BOC Edwards)
Предназначена для нанесения тонких пленок металлов, полупроводников и диэлектриков методами электронно-лучевого испарения и магнетронного распыления.
Ивонин Иван Варфоломеевич, тел. (382) 252-87-32, e-mail: iiv@phys. tsu.ru
 10.  Вакуумный пост Eiko IB-3 (Eiko Engineering)
Предназначен для магнетронного напыления на исследуемые образцы серебряного токопроводящего покрытия, с приставкой для термического напыления углеродного токопроводящего покрытия.
 11.  Вакуумный пост EMITECH K550X (Quorum Technologies)
Предназначен для магнетронного напыления на исследуемые образцы золотого токопроводящего покрытия, а также для термического напыления углеродного токопроводящего покрытия.
 12.  Установка вакуумная напылительная ВУП-5 (СЭЛМИ)
Вакуумный универсальный пост предназначен для подготовки объектов, исследуемых с помощью электронного микроскопа и других исследовательских приборов. Прибор может быть применён для исследований в области физики, химии, биологии, медицины и других областях науки и техники. Остаточное давление в высоковакуумном объёме при охлаждении ловушки жидким азотом 1, 3– 4 Па. Ток накала испарителей 200 А. Температура столика для нагрева объектов 1100 С. Температура столика для охлаждения объектов минус 160 С. Напряжение на выходе высоковольтного выпрямителя 7 кВ. Максимальный ток тлеющего разряда 47 мА.
 13.  Камера вакуумного напыления UNIVEX 450 (Leybold AG)
Предназначена для вакуумного напыления в исследованиях и разработках. Преимущества данной установки: Модульная конструкция системы; Удобный доступ к основным узлам вакуумной камеры; Установка очень проста в эксплуатации; Система откачки адаптирована для индивидуального использования; Возможность высокочастотного распыления. Система откачки включает в себя: Двухступенчатый пластинчато-роторный вакуумный насос TRIVAC D 65 B; Турбомолекулярный вакуумный насос TURBOVAC 1100 С.
Никоноров Николай Валентинович, тел. (812) 337-68-81, e-mail: nikonorov@oi. ifmo.ru
 14.  Вакуумный стенд для получения композитных покрытий и исследования их свойств АЛДАЗ (ИТ СО РАН)
Предназначен для синтеза углеродных покрытий газоструйным методом. Вакуумная камера, сверхзвуковое сопло, высоковакуумный насос, глубина вакуума в камере 10-4 мм рт. ст. , относительное содержание метана в смеси 0, 1– 2, 5 %, расход газа 50– 80 см3/ мин. , давление в форкамере 10– 50 мм рт. ст. , диаметр сопла 100– 500 мкм, температура: форкамеры 1000– 15000С, нитей активатора 2000– 21000С, поверхности образца 750– 9500С.
 15.  Установка электронно-лучевого напыления KE 1000 (TFE)
Предназначен для нанесения тонкоплёночных покрытий в условиях серийного производства. За счёт гибкости настройки и простоты управления может применяться для решения задач опытного производства. Особенности: равномерность толщины плёнки в диапазоне 3-5%; возможность двухстороннего напыления; возможность ионной очистки перед напылением; широкие возможности по кастомизации; компактность.
Дежурный специалист, тел. (495) 980-08-19, info@global-smt.ru
 16.  Установка магнетронного напыления KS40V (TFE)
Предназначена для нанесения тонкоплёночных покрытий в условиях серийного производства. За счёт гибкости настройки и простоты управления может применяться для решения задач опытного производства. Особенности: равномерность толщины плёнки в диапазоне 1-5%; возможность двухстороннего напыления; вертикальное расположение мишеней; шлюзовая камеры выгрузки-разгрузки; нанесение до 6 материалов в одном цикле.
Дежурный специалист, тел. (495) 980-08-19, info@global-smt.ru
 17.  Установка магнетронного напыления ЭТНА-100-МТ (НТ-МДТ)
Предназначена для получения функциональных нанопокрытий из различных материалов с помощью магнетронного распыления материалов мишеней металлов, диэлектриков и полупроводников в плазме постоянного тока в инертном газе. Нанесение многослойных покрытий. Получение нанопокрытий. Точность нанесения покрытий 1 нм.
 18.  Установка магнетронного напыления TFE KS120V (Kenosistec)
Предназначена для нанесения тонкоплёночных покрытий в условиях серийного производства. За счёт гибкости настройки и простоты управления может применяться для решения задач опытного производства. Обеспечивает равномерность толщины плёнки в диапазоне 1-5%; возможность двухстороннего напыления; вертикальное расположение мишеней; шлюзовая камеры выгрузки-разгрузки; нанесение до 6 материалов в одном цикле.
 19.  Вакуумная напылительная установка Q150R ES (Quorum)
Предназначена для нанесения покрытий в виде тонких пленок электропроводников на поверхность непроводящих ток материалов (диэлектриков). Используется в процессе подготовки образцов к сканирующей электронной микроскопии, а также в процессе микропроизводства лаборатории гибридной фотоники.
М. Броссард, e-mail: m. brosssard@skoltech.ru
 20.  Установка для холодного газодинамического напыления Dimet D405 RE (ДИМЕТ)
Предназначена для пробоподготовки. Параметры подводимого к комплекту воздуха: максимальное давление 12 кгс/ см2 (1, 2 МПа); максимальный расход 0, 45 м3/ мин; температура не более 40 ° С. Параметры воздуха в напылителе: рабочее давление от 5 до 9 кгс/ см2 (от 0, 5 до 0, 9 МПа); рабочая температура нагрева от 200 до 600 ° С; для работы оборудования используются порошковые материалы, состоящие из металлических и керамических частиц с размером менее 200 мкм. Расход порошкового материала от 0, 1 до 0, 8 г/ с.
 21.  Электронно-лучевой литограф ультравысокого разрешения RAITH150-TWO (Raith Nanofabrication)
Рассчитан на работу с пластинами и масками вплоть до 7-8 дюймов. Является нанотехнологическим инструментом новейшего поколения и создан специально, чтобы отвечать современной динамике требований в нанотехнологиях. RAITH150-TWO позволяет объединить научные исследования, разработку устройств и мелкосерийное производство в условиях комплексной автоматизации, максимальной воспроизводимости результатов, максимальной скорости работы и расширенного функционала. Простота в обращении, низкая стоимость эксплуатационных затрат, умеренные требования к условиям помещения и небольшой размер занимаемой площади делают RAITH150-TWO производительным и высокоэффективным оборудованием для электронно-лучевой литографии, навигации по пластинам и сканирования чипов с высоким разрешением.
 22.  Установка ионной планаризации структурообразующих слоев кристаллов СБИС IM 150 (Oxford Applied Research)
Предназначена для прецизионной обработки поверхностей различных образцов широким ионным пучком в сверх-высоко-вакуумных условиях. Обеспечивает высокое качество обрабатываемой поверхности методом ионной планаризации структурообразующих слоев кристаллов СБИС.
 23.  Установка вакуумного напыления металлов Covap II (Angstrom Engineering)
Предназначена для проведения множества процессов осаждения. Установка конфигурируется устройством с обратной связью для управления процессами соосаждения, системой хранения рецептов и уникальной складной камерой для улучшенного доступа. Конструкция готова к интегрированию в перчаточный бокс.
 24.  Система вакуумного напыления PVD-2EB2R11 (ADVAVAC)
Предназначена для нанесения многослойных покрытий для микроскопии и электронной микроскопии. Области применения: Отработки технологий нанесения покрытий; Проведения научных исследований в областях материаловедения, приборостроения, электроники, нанесения оптических покрытий, микромеханических устройств и др. Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами.
 25.  Установка ионного травления IM 4000 (Hitachi)
Предназначена для обработки поверхности микро- и нано-размерных объектов несфокусированным по-током ионов. Обеспечивает получение плоских шлифов или поперечных срезов. Образец подвергается воздействию ускоренных ионов аргона, в результате поверхность становится идеально гладкой, что дает возможность проведения анализа EBSD в электронном микроскопе. Для травления плоских шлифов образец помещают на вращающийся круглый держатель. В случае полировки поперечных срезов, образец закрывают титановой пластиной (маской), и он остается неподвижным.
 26.  Система вакуумного напыления NanoSys (Mantis Deposition)
Является оптимальным решением для приложений связанных с формированием тонкопленочных покрытий из наночастиц. Вакуумная камера имеет сферическую форму и позволяет работать в условиях сверхвысокого вакуума (СВВ), что обеспечивает нанесение сверхчистых пленок из наночастиц. Для получения высокочистых наночастиц важно полностью контролировать процессы окисления, осуществляя его только при помощи намеренного ввода кислорода в камеру. Для подобных приложений рекомендуется установка шлюзовой камеры и отжиг рабочей камеры. Загрузочные шлюзы и системы отжига камер предлагаются опционально.
 27.  Система вакуумного напыления QUBE (Mantis Deposition)
Представляет собой простую модульную конструкцию, базирующуюся на кубической камере со сменными панелями и большой фронтальной дверью. Данное исполнение наиболее удобно для разработки новых материалов в условиях высокого вакуума, отработки технологии и изготовления опытных образцов и мелкосерийной продукции.
 28.  Компактная система вакуумного напыления HEX (Korvus Technology)
Позволяет с минимальными финансовыми затратами и в кратчайшие сроки освоить технологии вакуумного напыления и исследовать на практике влияние и взаимодействие различных параметров процессов. Все это позволяет создать на базе учебно-исследовательских центров и центров коллективного пользования лабораторию по исследованию материалов и процессов роста тонких пленок. Конструкция обеспечивает удобство и простоту осблуживания, внесения изменений и дополнений при низких финасовых расходах, что превращает HEX в передовую систему для обучения различным методам осаждения покрытий, начиная от подготовки образцов к анализу поверхности до нанесения тонких пленок методами электронно-лучевого и термического испарения, а также методами магнетронного распыления.
 29.  Установка вакуумного напыления PVD-10 (Vinci)
Вакуумная система, позволяющая одинаково качественно проводить процессы термического осаждения из паровой фазы или путем распыления мишени. Благодаря своему дизайну идеально подходит для лабораторий и повседневных научно исследовательских задач.
Юрий Васин, тел. : (495) 287-85-77, e-mail: vasin@tbs-semi.ru
 30.  Установка вакуумного напыления PVD-4 (Vinci)
Компактная вакуумная система, позволяющая одинаково качественно проводить процессы термического осаждения из паровой фазы или путем распыления мишени. Благодаря своему дизайну идеально подходит для лабораторий и повседневных научно исследовательских задач.
Юрий Васин, тел. : (495) 287-85-77, e-mail: vasin@tbs-semi.ru
 31.  Установка магнетронного напыления MSP 1225-1235 (Evatec)
Семейство установок магнетронного напыления с вертикальной загрузкой. Общая площадь напыления составляет 1, 5 м2 и 2, 2 м2 для моделей 1225 и 1232 соответственно. Позволяет напылять металлы, диэлектрики и TCO покрытия как на гибкие, так и на жесткие подложки. Для напыления диэлектриков используется технология сдвоенных магнетронов. Область применения – напыление поглощающих и олеофобных покрытий, светофильтров, производство LED.
Юрий Васин, тел. : (495) 287-85-77, e-mail: vasin@tbs-semi.ru
 32.  Установка вакуумного напыления Evatec BAK 1101 (Evatec)
Идеально подходит для высокоточной оптики в случае конфигурации с плазменным источником или для силовой электроники в случае двусторонней металлизации. При всех тех же возможностях что и у младших установок ВАК 1101 предоставляет огромный потенциал, в том числе и возможность работы с подложками 12 и выше.
Юрий Васин, тел. : (495) 287-85-77, e-mail: vasin@tbs-semi.ru
 33.  Установка вакуумного напыления Evatec BAK 901 (Evatec)
С размерами партий 51 (4) и 23 (6) подложки в стандартной калотте ВАК-901 предлагает на 25% больше производственной мощности чем ВАК-761. Большая вакуумная камера позволяет разместить различные комбинации электронных пушек, лодочек и ионного источника. При этом остается много свободного пространства для комфортного обслуживания источников напыления.
Юрий Васин, тел. : (495) 287-85-77, e-mail: vasin@tbs-semi.ru
 34.  Установка вакуумного напыления Evatec BAK 761 (Evatec)
Вакуумная система напыления BAK761 пользуется всемирной репутацией как эталон экономичного, массового производства, используемый в широком ряде приложений, требующих высокой точности в формировании покрытия и повторяемости в больших объемах производства. Ионное травление и термическое осаждение, Lift-off и напыление диэлектриков все это – может быть реализовано на одной гибкой платформе BAK-761.
Юрий Васин, тел. : (495) 287-85-77, e-mail: vasin@tbs-semi.ru
 35.  Установка магнетронного напыления Evatec LLS Evo II (Evatec)
Позволяет проводить плазменную очистку подложек в загрузочном шлюзе, что предотвращает загрязнение процессной камеры. Магнетронное напыление с помощью постоянного (DC) и ВЧ (RF) тока, комбинированное (DC/ RF) напыление, напыление с помощью постоянного тока в режиме пульсации. Модульная конструкция подложко-держателя позволяет быстро переоснащать систему под подложки различных типоразмеров. ПО с дружественным интерфейсом, позволяющее пошагово отслеживать и создавать процесс от откачки до напуска.
Infos@tbs-semi.ru
 36.  Вакуумная система напыления Evatec BAK 641 (Evatec)
Установка обладает достаточной вместительностью, чтобы разместить несколько источников и процесс аксессуаров, включая ионные источники, систему нагрева подложек с лицевой и обратной стороны. BAK-641 является идеальным выбором для нанесения высокоточных секвенций слоев для прецизионной оптики и оптоэлектроники. Оптимальная конструкция и эргономика системы позволит создать идеальный проводящий контакт на основе ITO, а возможность размещения и одновременной работы 2-х электронных пушек, обеспечит возможность роста надежным, многокомпонентным слоям для датчиков и силовой электроники.
infos@tbs-semi.ru
 37.  Установка вакуумного напыления Evatec BAK 501 (Evatec)
Предназначена для разработки процессов напыления и мелкосерийных производств, при этом возможности установки включают весь потенциал старших моделей линейки BAK. Компактность, функциональность и приемлемая стоимость выгодно выделяют BAK 501 на фоне конкурентов. Использование одной конфигурируемой платформы управления позволяет легко адаптировать систему к уже отработанным процессам. BAK 501 может быть легко переконфигурирован для реализации новых идей.
infos@tbs-semi.ru
 38.  Установка совмещения и напыления SMA (Idonus Sarl)
Предназначена для напыления слоев металла в вакууме через маску. Осаждение тонких пленок через маску это мощный инструмент формирования PVD слоев. Вы пропускаете этап фотолитографии и мокрого или сухого травления, очень точно осаждая слой пленки через маску. Идеальна для различных размеров пластин. Антивибрационный держатель для PVD. Вакуумный держатель пластин и масок.
infos@tbs-semi.ru
 39.  Установка вакуумного напыления Z-650 (Leybold)
Предназначена для разработки процессов напыления и мелкосерийных производств. Обеспечивает нанесение высокоточных секвенций слоев для прецизионной оптики и оптоэлектроники. Возможность размещения и одновременной работы 2-х электронных пушек, обеспечит возможность роста надежным, многокомпонентным слоям для датчиков и силовой электроники.
 40.  Вакуумная напылительная установка Q150R ES (Quorum Technologies)
Нанесение покрытий в виде тонких пленок электропроводников на поверхность непроводящих ток материалов (диэлектриков). Подготовка образцов к сканирующей электронной микроскопии.
В. С. Комлев, тел. (495) 437-97-40, (499) 718-16-55,
 41.  Установка ионной имплантации с системой RBS анализа K2MV (НVЕЕ)
Предназначена для внедрения ускоренных в электромагнитном поле ионов в пластину полупроводника. Глубина проникновения легирующей примеси при этом зависит от типа бомбардирующих ионов, их энергии и кристаллической структуры мишени. Процесс внедрения ионов в мишень обычно приводит к образованию нарушений кристаллической структуры полупроводниковой пластины, которые затем частично устраняются во время отжига.
Рудый А. С. , тел. / факс. : (4852) 24-65-52, e-mail: rudy@uniyar. ac.ru, rudy@yf-ftian.ru
 42.  Установка электронно-лучевого напыления STE EB 48 (SemiTEq)
Предназначена для напыления тонких пленок различных материалов в сверхвысоком вакууме на подложку диаметром до 150 мм или нескольких подложек меньшего размера с использованием соответствующего адаптера.
Грабов Владимир Минович, e-mail: ckpo@herzen. spb.ru
 43.  Установка высокочастотного магнетронного напыления Auto 500 RF (Boc Edwards)
Предназначена для вакуумного магнетронного напыления металлов и диэлектрических покрытий различного функционального назначения: просветляющие покрытия, контактные площадки, маски для фотолитографии, прозрачные проводящие покрытия. Основной особенностью метода является высокая адгезия покрытий и большая скорость напыления. Благодаря многоканальной системе напуска газа, покрытия можно осаждать с помощью реактивного напыления. Предусмотрена система нагрева подложек до 200° С. Контроль толщины покрытия осуществляется методом микробаланса кварцевого кристалла.
Телефон: (812) 448-69-80 (доб. 5070), E-mail: imukhin@spbau.ru
 44.  Установка для вакуумного напыления Q-150T ES (Quorum Tehnologies)
Универсальная вакуумная система позволяющая получать пленки металлов методами термического испарения и катодного распыления материалов, а также углеродных пленок методом вакуумно-дугового испарения графита.
тел. : (812) 428 93 41, e-mail: nanocomposite@spbu.ru
 45.  Модернизированная установка газофазной эпитаксии LQ529A с импульсным Nd: YAG лазером со встроенным генератором второй гармоники (НИФТИ)
Установка обладает возможностью лазерного распыления твердотельных мишеней и позволяет производить методом эпитаксии из металлорганических соединений выращивание квантоворазмерных гетеронаноструктур структур на основе твердых растворов InGaAsP, таких как структуры с квантовыми ямами InGaAs и структуры с квантовыми точками InAs. Источниками материалов служат: металлоорганические соединения TMGa (триметилгаллий), (TMIn) (триметилиндий), гидриды AsH3 (арсин), PH3 (фосфин). В качестве легирующей примеси p-типа используется Zn и C (источник CCl4), в качестве примеси n-типа используется Si. Особенностью установки является возможность проведения лазерного распыления твердотельных мишеней.
Тел. (831) 462-31-20, (831) 462-31-36, email: NIFTI@NIFTI. UNN.ru
 46.  Установка напыления металлов LAB 18 (Kurt Lesker)
Предназначена для магнетронного распыления (напыления) металлов. Для термического распыления установка оснащается тремя испарителями лодочками. Для магнетронного распыления могут устанавливаться до четырех магнетронов. Электронно-лучевой испаритель доступен в различных модификациях и может комбинироваться с термическим, магнетронным или испарителем органических материалов. В качестве опции очистки предлагается ионная пушка. Управление установкой осуществляется при помощи ПК с тач-скрин дисплеем. Установка работает как в полностью ручном, так и в автоматическом режиме по рецептам. В автоматическом режиме выполнение программы происходит по нажатию одной кнопки. Система настраивается таким образом, что стандартный процесс инициируется кнопкой старт сразу после закрытия камеры: откачка, очистка, напыления и напуск происходят автоматически по заранее заложенной программе.
Боргардт Николай Иванович, e-mail: borgardt@miee.ru
 47.  Комплекс на базе установки плазменного напыления APS Spray-Equipment MFP-1000 (GTV)
Предназначена для получения функциональных моно и мультипокрытий
Анциферов Владимир Никитович, тел. : 342 2391119, e-mail: director@pm. pstu. ac.ru
 48.  Настольная напылительная установка JEC-3000FC (Jeol)
Предназначена для напыления тонкого слоя металла на непроводящий образец и служит устройством пробоподготовки для растровой электронной микроскопии
 49.  Специализированный высоковакуумный стенд STE IBS (НиТО)
Предназначен для проведения исследования низкодозной и низкоэнергетической ионной модификации приповерхностных слоев вольфрама
Конников Самуил Гиршевич, тел. : (812) 292-79-68, e-mail: konnikov@mail. ioffe.ru
 50.  Установка осаждения покрытий VSE-PVD-100-2
Вакуумная установка для нанесения тонкопленочных покрытий методом магнетронного распыления
Корольков Виктор Павлович, тел. : (383) 333-30-91, e-mail: victork@iae. nsk. su
 51.  Система с приводным механизмом Platit AG для размещения и загрузки изделия для осаждения нанокомпозитных покрытий
Предназначена для осаждения нанокомпозитных покрытий на субстраты сложной геометрической формы с регулятором зоны активного проникновения паро-газовой фазы
Андреев Александр Геннадиевич, тел. : 499 9733075, e-mail: science@stankin.ru
 52.  Система магнетронного напыления МАГ-2000 (Протон-МИЭТ)
Предназначена для напыления проводящих и панцирно-жёстких плёнок на образцы для зондовых микроскопов. Отличается рекордно малой толщиной сплошного покрытия, 8 Å для W и 10 Å для С, мало зависящей от угла наклона. Распыляет проводящие немагнитные материалы, в т. ч. легированные полупроводники. Диаметр пятна равнотолщинного напыления 50 мм, скорость напыления 1 А/ с. Состоит из равновесного 30 Вт магнетрона и блока управления с заданием времени экспозиции. Магнетрон встраивается пользователем в любой пост с вакуумом до 10-5 Торр и напуском аргона до 10-3 Торр, например, ВУП-5.
Начальник лаборатории: Борис Альбертович Логинов Телефон: (499) 720-85-31, (495) 364-60-93, факс: (499) 720-85-31, (495) 364-60-93 E-mail: logi@miee.ru
 53.  Вакуумная напылительная установка SPI (SPI Supplies)
Предназначена для напыления золотого/ углеродного покрытий на токонепроводящие образцы для исследований на СЭМ
Квардаков Владимир Валентинович, тел. : (499) 196-71-10, e-mail: kvard@kiae.ru
 54.  Универсальный лазерный станок LaserPro Mercury III ME-12 (Hansen)
Предназначен для поверхностной обработки и резки различных материалов с помощью CO2 лазера. Система LaserPro Mercury включает в себя управляемый с помощью ПЭВМ модуль лазерного отжига. Мощность лазера = 40 Вт, длинна волны λ =10, 6 мкм, частота n=2000 Гц. Температура в рабочей зоне поддерживается на уровне 15 – 30 ° С. Максимальная скорость сканирования 100 см/ с. Разрешение варьируется от 80 до 390 точек на сантиметр.
 55.  Система лазерной модификации поверхности Мини-Маркер 2
Предназначена для гравировки и маркировки различных материалов на основе волоконного лазера. Высокая точность позиционирования до 1 мкм и размер пучка в области перетяжки 50 мкм (и менее при других объективах) позволяют осуществлять микрообработку металлов, а также наноструктурирование поверхности кремния.
Фандеев Александр Григорьевич, телефон: (812) 457-1845, e-mail: fandeev@rambler.ru
 56.  Установка вакуумного напыления Varicoat 430 (Leybold-Heraeus)
Предназначен для получения тонких пленок термическим методом, методом лазерной абляции совместно с твердотельным импульсным лазером LS-2138.
Сысоев Игорь Александрович, тел. 8-919-739-2055, e-mail: eianpisia@yandex.ru
 57.  Установка детонационного напыления CCDS-2000 (ИГиЛ СО РАН)
Покрытия наносятся на поверхности деталей из металлов, керамики и пластмасс. Установка детонационного напыления, отличается от аналогов точной системой газопитания, дозированной локальной подачей порошка и компьютерным управлением пушкой и манипулятором. Применение двух дозаторов порошка позволяет в автоматическом режиме формировать многослойные композитные покрытия и смесевые слои с программно-заданным соотношением компонентов в слое.
Карпов Евгений Викторович, тел. : (383) 333-20-51, E-mail: evkarpov@mail.ru
 58.  Система напыления металлов JFC-1600 (JEOL)
Предназначена напыление различных металлов (золота, платины) на поверхность непроводящих геологических образцов для высокоразрешающей РЭМ.
Соловьева Людмила Владимировна, Тел. : (499) 233-95-47, E-mail: solo@aernet.ru
 59.  Установка совмещения и экспонирования MDA-400LJ (MIDAS SYSTEM)
Предназначена для технологий изготовления MEMS, оптоэлектроники и др. В режиме контактного экспонирования система может достигнуть прецизионной точности разрешения в 1 мкм. MDA-400LJ - это идеальный и экономичный вариант для использования в лаборатории для проведения НИОКР и для малых объемов производства. Обработка пластин до 100 мм.
 60.  Вакуумный пост ВУП-5 с приставками для термического и электронно-лучевого напыления пленок
Предназначен для получения пленок из различных материалов с высокой производительностью методом магнетронного распыления, а также для подготовки объектов, исследуемых с помощью электронного микроскопа или других аналитических приборов. Прибор может быть применен для исследований в области физики, химии, биологии, медицины и других областях нayки и техники.
Химический факультет МГУ имени М. В. Ломоносова, кафедра неорганической химии, Москва, Ленинские горы, д. 1 корп. 3, ответственный: Казаков С. М. , тел. (495)-939-2074, e-mail: root@inorg. chem. msu.ru
 61.  Установка вакуумного напыления Nexdep (Angstrom Engineering)
Предназначена для различных процессов вакуумного нанесения пленок, таких как магнетронное напыление (sputter deposition), электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation), ионное напыление (ion-assisted deposition), резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation), а также оборудование для эмуляции космического пространства.
 62.  Установка вакуумного напыления Covap II (Angstrom Engineering)
Предназначена для проведения множества процессов осаждения. Конфигурируется устройством с обратной связью для управления процессами соосаждения, системой хранения рецептов и уникальной складной камерой для улучшенного доступа.
 63.  Системы осаждения тонких пленок PVD 75 (Kurt J. Lesker Company)
Установка предназначена для осаждения тонких металлических покрытий из паровой фазы на поверхность изделий из полупроводниковых; кварцевых, стеклянных и прочих диэлектрических материалов в вакууме. Применяется в цикле изготовления микроэлектронных компонентов, интегральных микросхем и подобных устройств микроэлектронной промышленности.
Каргин Николай Иванович, тел. 8 (495) 788-56-99, доб. 8146, e-mail: NIKargin@mephi.ru; Миннебаев Станислав Вадимович e-mail: dr. stason@mail.ru
 64.  Установка вакуумного напыления Edwards Auto306 (BOC Edwards)
Напыление металлов и углерода в вакууме на поверхность образцов для подготовки образцов для электронной микроскопии
Баженов Владислав Владимирович, тел. : (343) 702-80-01, e-mail: Bazhenov. V. V@nrdc.ru
 65.  Установка для микротравления Veeco 7760
Предназначена для ионной имплантации и травления
Семенцов Алексей Борисович, тел. : (8142) 71-32-37, e-mail: coastdweller@mail.ru
 66.  Высокочастотная емкостная плазменная установка
Предназначена для модификации материалов
Дресвянников Александр Федорович, тел. : 8843 2314316, e-mail: nich140@mail.ru
 67.  Установка вакуумного напыления Varicoat 430
Получения тонких пленок термическим методом, методом лазерной абляции совместно с твердотельным импульсным лазером LS-2138.
Сысоев Игорь Александровичe-mail: eianpisia@yandex.ruтел. : 8-919-739-2055
 68.  Установка для ионной полировки для подготовки образцов 1060 SEM Mill (Fischione) 43020706
Обработка поверхности материалов для структурного анализа
Орлов Михаил Романович, тел. : (499) 263-88-81, e-mail: admin@viam.ru
 69.  Вакуумная установка для напыления проводящих и диэлектрических слоев SunPla 600 TEM (SunPlaEng)
Нанесение тонких металлических и диэлектрических пленок на различные подложки
Латышев Александр Васильевич, тел. : (383) 330-90-55, e-mail: latyshev@isp. nsc.ru
 70.  Вакуумный универсальный пост ВУП-5М
Подготовка образцов для исследования тонкой структуры
Салтыков Сергей Николаевич, тел. : 4742 328155, e-mail: saltsn@mail.ru
 71.  Импрегнатор вакуумный со встроенным вакуумным эжектором Cito Vac (Struers)
Для запресовки порошков, пористых и трещиноватых образцов, с целью заполнения всех полостей и связывания материала образца, а так же д/ приклеивания тонких срезов на предметные основания
Гороховский Александр Владиленович, тел. : 8452 998700, e-mail: ftf@sstu.ru
 72.  Вакуумный универсальный пост ВУП-5М
Приборы для обработки поверхности материалов
Дышлюк Любовь Сергеевна, тел. : 3842 396874, e-mail: tl@kemtipp.ru, olich. 43@mail.ru
 73.  Системы электро-лучевого напыления тонких пленок PVD 250 (Kurt J. Lesker Company)
Напыление тонких пленок металлов в условиях высокого вакуума. Установки обладают широкими возможностями для получения покрытий из большинства применяемых в технологии микроэлектроники металлов (Ni, Ti, Al, Pt, Pd, V, Ta, Ge, Au, Cr, Cu) методами термического вакуумного, магнетронного и электронно-лучевого испарения.
Каргин Николай Иванович, тел. : 8 (495) 788-56-99, доб. 8146, e-mail: NIKargin@mephi.ru; Миннебаев Станислав Вадимович, dr. stason@mail.ru
 74.  Установка для термического вакуумного напыления РVD-75 (Kurt J. Lesker Company)
Напыление тонких пленок металлов в условиях высокого вакуума. Установки обладают широкими возможностями для получения покрытий из большинства применяемых в технологии микроэлектроники металлов (Ni, Ti, Al, Pt, Pd, V, Ta, Ge, Au, Cr, Cu) методами термического вакуумного, магнетронного и электронно-лучевого испарения.
Каргин Николай Иванович, тел. : 8 (495) 788-56-99, доб. 8146, e-mail: NIKargin@mephi.ru
 75.  Ионный имплантер Собственное производство
Приборы для обработки поверхности материалов
Рыбальченко Виктор Викторович, тел. : 495 2763272, e-mail: vvr_01@mail.ru
 76.  Установка ионной имплантации с системой RBS анализа K2MV (НVЕЕ)
Приборы для обработки поверхности материалов
Орликовский Александр Александрович, тел. : 499 1253826, e-mail: orlikovsky@ftian.ru
 77.  Установка вакуумная для нанесения нанокомпозитных покрытий UniCoaT 600SL
Приборы для обработки поверхности материалов
Аракелян Сергей Мартиросович, тел. : 4922 479847, e-mail: arak@vlsu.ru
 78.  Установка вакуумная для нанесения припоя на теплоотвод THEBION EB4P3KWTH2-Ion (Torr)
Приборы для обработки поверхности материалов
Аракелян Сергей Мартиросович, тел. : 4922 479847, e-mail: arak@vlsu.ru
 79.  Технологический комплекс напыления тонких пленок металлов SEGI-RFA3-4TR
Приборы для обработки поверхности материалов
Беспалов Владимир Александрович, тел. : 499 7351670, e-mail: bespalov@unicm.ru
 80.  Система боксов трехперчаточных с вакуумной камерой для нанесения тонких пленок Unilab (MBraun)
Приборы для обработки поверхности материалов
Седов Игорь Владимирович, тел. : (496) 522-10-65, e-mail: isedov@icp. ac.ru
 81.  Q-pod контроллер датчика толщины/ скорости напыления 782-QPJD-G1 (INFICON)
Приборы для обработки поверхности материалов
Полуэктов Николай Павлович, тел. : 498 6874094, e-mail: poluekt@mgul. ac.ru
 82.  Фронтальный однокристальный датчик скорости напыления SL-A0-E48 (Inficon)
Приборы для обработки поверхности материалов
Полуэктов Николай Павлович, тел. : 498 6874094, e-mail: poluekt@mgul. ac.ru
 83.  Установка вакуумного напыления и травления с контролем толщины слоя AUTO 500 (BOC)
Приборы для обработки поверхности материалов
Кулипанов Геннадий Николаевич, тел. : (383) 329-44-98, e-mail: G. N. Kulipanov@inp. nsk. su
 84.  Станция LIGA-технология и рентгеновская литография
Приборы для обработки поверхности материалов
Кулипанов Геннадий Николаевич, тел. : (383) 329-44-98, e-mail: G. N. Kulipanov@inp. nsk. su
 85.  Установка для обработки поверхности гибких полимерных материалов коронным разрядом КР-2
Приборы для обработки поверхности материалов
Баблюк Евгений Борисович, тел. : 499 9763758, e-mail: bablyuk. evgeny@yandex.ru
 86.  Установка искрового плазменного спекания Labox 1575 (SINTER)
Приборы для обработки поверхности материалов
Маслов Анатолий Александрович, тел. : (383) 330-38-80, e-mail: maslov@itam. nsc.ru
 87.  Система формирования планарных структур PixDro LP50 (HQ Pixdro b. v. )
Система формирования планарных микро и наноструктур (в т. ч. мембранных) методом микропечати. Позволять работать с любыми подложками размером до 210х300 мм, толщиной до 25 мм и весом до 1 кг.
Кашкаров Павел Константинович, тел. : (495) 939-21-93, e-mail: kashkaro@phys. msu.ru
 88.  Напылительная установка JFC-1100 (JEOL)
Приборы для обработки поверхности материалов
Широков Александр Александрович, тел. : (8452) 97-04-44, e-mail: alexanders@ibppm. sgu.ru
 89.  Вакуумный пост JEE-4X (JEOL)
Приборы для обработки поверхности материалов
Широков Александр Александрович, тел. : (8452) 97-04-44, e-mail: alexanders@ibppm. sgu.ru
 90.  Вакуумный пост ВУП-4
Предназначен для обработки поверхности материалов
Широков Александр Александрович, тел. : (8452) 97-04-44, e-mail: alexanders@ibppm. sgu.ru
 91.  Многоцелевой имплантер ионов кислорода и водорода
Предназначен для обеспечения базовых операций полупроводниковых технологий и радиационного материаловедения: технологии кремний-на-изоляторе, исследования воздействия интенсивных ионных пучков на металлические мишени– приемники пучков в источниках нейтронов и гамма-квантов для медицины, систем безопасности и для термоядерного материаловедения. Экспериментальный имплантер позволяет проводить эксперименты с пучком ионов энергией до 150 кэВ и током на мишени до 2 мА.
Аржанников Андрей Васильевич, тел. : 383 3634019, e-mail: nsm@nsm. nsu.ru
 92.  Аппарат для напыления на биологические образцы EM SCD 500 (Leica)
Приборы для обработки поверхности материалов
Байбородин Сергей Иванович, тел. : (383) 363-49-72, e-mail: bai@bionet. nsc.ru
 93.  Лабораторная установка для азотирования сталей и сплавов в плазме
Приборы для обработки поверхности материалов
Иванов Максим Геннадьевич, тел. : (343) 267-87-96, e-mail: max@iep. uran.ru
 94.  Установка искрового плазменного спекания DR. SINTER Lab Model SPS-511S
Приборы для обработки поверхности материалов
Карпов Юрий Александрович, тел. : (495) 953-87-91, e-mail: karpov@giredmet.ru
 95.  Вакуумный пост Varicoat 430
Приборы для обработки поверхности материалов
Синельников Борис Михайлович, тел. : 8652 95-69-32, e-mail: info@ncstu.ru
 96.  Вакуумный пост ВУП-5М
Приборы для обработки поверхности материалов
Синельников Борис Михайлович, тел. : 8652 95-69-32, e-mail: info@ncstu.ru
 97.  Полуавтоматический двухдисковый шлифовально полировальный станок Metaserv (BUEHLER)
Подготовка образцов к исследованию
Калинников Владимир Трофимович, тел. : (81555) 79-549, e-mail: office@chemy. kolasc. net.ru
 98.  Установка вакуумного напыления Sunicoat-1000
Технические характеристики: Обработка до 24 подложек размером 48х60мм за один рабочий цикл; Напыление плёнок 3 магнетронами 4 тигля с заслонками объёмом 10 см3 для термовакуумного испарения Возможность поворота подложек. Скорость вращения подложкодержателя до 10 об/ мин Подогрев подложек до 250 oC Скорость напыление: до 2000Å / мин (Cu, 1, 5кВт); Однородность толщины напылённых плёнок: < ± 5%(при толщине покрытия 200нм); 4 линии подачи газа для Ar, O2, N2 (рабочий), N2 (продувка); Регулирование расхода газа: < ± 1 Вакуум 5х10-7 Торр Занимаемая площадь, мм: 2500(Ш)х4000(Г)х1900(В)
Громков Николай Валентинович, тел. : 8412 368422, e-mail: ngrom@bk.ru
 99.  Установка вакуумного термического испарения для нанесения тонких плёнок УВН-71П3
Технологии напыления и серийного производства пленочных элементов и схем/ Установка УВН-71П-3 позволяет изготавливать тонкие пленки в высоком вакууме методом резистивного испарения материала
Громков Николай Валентинович, тел. : 8412 368422, e-mail: ngrom@bk.ru
 100.  Установка вакуумно-дугового нанесения защитных покрытий УРМ3. 273. 079
Нанесение защитных покрытий на материалы
Корнеев Алексей Евгеньевич, тел. : (495) 675-85-16, e-mail: korneev@cniitmash.ru
 101.  Установка вакуумно-дугового нанесения защитных покрытий УРМ3. 273. 070
Нанесение защитных покрытий на материалы
Корнеев Алексей Евгеньевич, тел. : (495) 675-85-16, e-mail: korneev@cniitmash.ru
 102.  Вакуумная камера И7. 03. 00. 000 И7. 03. 00. 000
Проведение исследований жаропрочных покрытий
Корнеев Алексей Евгеньевич, тел. : (495) 675-85-16, e-mail: korneev@cniitmash.ru
 103.  Вакуумная камера VC103
Вакуумная камера предназначена для получения безмасляного вакуума в установке импульсного лазерного напыления
 104.  Высоковакуумная установка микроскопического in-situ контроля процессов магнетронного плазменного распыления проводящих нанослоев с субатомарным разрешением
Используется для создания проводящих нанослоевслоев, необходимых при подготовке неэлектропроводных образцов для туннельной и электронной микроскопии. Отличается тем, что характеристики пленки контролируются в процессе напыления внутри вакуумной камеры
Пашкевич Сергей Николаевич, тел. : 3532 375967, e-mail: imnt@unpk. osu.ru
 105.  Вакуумный универсальный пост ВУП-4
Напыление покрытий на образцы
Пашкевич Сергей Николаевич, тел. : 3532 375967, e-mail: imnt@unpk. osu.ru
 106.  Роботизированный комплекс высокоскоростного газопламенного и плазменного напыления GLC - P - 1000
Плазменное и высокоскоростное газопламенное напыление наноструктурных покрытий
Солнцев Константин Александрович , тел. : (499) 135-20-60, e-mail: imet@imet. ac.ru
 107.  Технологический комплекс Вакуумное напыление
Приборы для обработки поверхности материалов
Сигов Александр Сергеевич, тел. : 495 4330044, e-mail: sigov@mirea.ru
 108.  Установка вакуумного напыления УВН-2М
Напыление контактной металлизации
Петров Виктор Владимирович, тел. : 8634 371635, e-mail: vvpetrov@sfedu.ru, hie@sfedu.ru
 109.  Установка ионно-плазменного напыления УИПН
Синтез тонкопленочных слоев, в том числе и наноструктурированных материалов, в частности, с помощью применения методики поочередного соосаждения нанослоев различных материалов при различных параметрах синтеза
 110.  Установка вакуумного напыления Auto 500 (BOC Edwards)
Предназначена для нанесения тонких пленок металлов, полупроводников и диэлектриков методами электронно-лучевого испарения и магнетронного распыления
Шур Владимир Яковлевич, тел. : 343 2617436, e-mail: vladimir. shur@urfu.ru
 111.  Вакуумный импрегнатор CitoVac (Struers)
Предназначен для проведения общенаучных экспериментов в области вакуумного напыления
Эпштейн Светлана Абрамовна, тел. : 499 2302449, e-mail: apshtein@yandex.ru
 112.  Установка магнетронного напыления Sunpla 40TM
Предназначена для напыления металлических, диэлектрических и полупроводниковых материалов как простых веществ, так и сложных соединений. Установка позволяет напылять электрооптические, многослойные градиентные покрытия с заданными толщинами каждого слоя. Шлюзовая камера оснащена системой очистки и загрузочной кассетой с держателем на три образца диаметром 4. Камера снабжена ионной пушкой для очистки подложки, предусмотрена подача высокочастотного потенциала на подложку.
тел. / факс (495) 638-45-46; (495)236-05-12 e-mail: olga. trpva@rambler.ru
 113.  Система напыления тонких токопроводящих покрытий JFC 1600
Предназначена для напыления тонких токопроводящих покрытий
Кузьменко Александр Павлович, тел. : 4712 504445, e-mail: apk3527@mail.ru
 114.  Установка для вакуумного напыления Scancoat Six (BOC Edwards)
Предназначена для нанесения покрытий магнетронным методом на холодную подложку с регулировкой ее потенциала, ионное травление, термическое напыление
Голубок Александр Олегович, тел. (812) 498-10-65, email: aogolubok@mail.ru
 115.  Вакуумная напылительная установка SPI (SPI Supplies)
Предназначенf для проведения общенаучных экспериментов
Васильев Владимир Николаевич, тел. : 812 2330089, e-mail: mater@mail. ifmo.ru
 116.  Ионно-лучевые установки ИЛУ-3, ИЛУ-200
Оборудование предназначено для модификации приповерхностных свойств твердых тел и тонких пленок – для легирования полупроводников, ионно-лучевого синтеза захороненных сплошных слоев и наноструктур, инженерии дефектов, а также формирования приборных слоев и структур микро-, нано- и оптоэлектроники
Михайлов Алексей Николаевич, зав. лаб. НИФТИ ННГУ, mian@nifti. unn.ru, 7 902 683 51 26
 117.  Система напыления проводящих покрытий с функцией травления и кварцевым контроллером SPI 12157EQ-AX
- нанесение проводящих металлических и углеродных покрытий толщиной до 10 нм; - ионное травление поверхности образцов.
8-930-858-00-35 umsn@yandex.ru
 118.  Технологический комплекс напыления тонких пленок металлов
Напыление тонких пленок металлов
8-499-720-69-07
 119.  Система напыления и дугового плазменного осаждения С-400-2С
Для проведения исследований на кафедре микро- и наноэлектроники
 120.  Рабочий модуль установки магнетронного напыления с замкнутым полем с монтажом и наладкой
Нанесение покрытий с заданными свойствами
 121.  Ионный имплантер
Данная установка предназначена для модификации свойств поверхности различных деталей с целью улучшения их характеристик (например, увеличения износостойкости, усталостной прочности, увеличения сопротивления коррозии и т. д. ) путём микролегирования поверхностных слоёв методом ионной имплантации.
8(495)276-33-83
 122.  Установка плазменного напыления УПН-28
Применяется в научном и образовательном процессе в качестве лабораторной базы
 123.  Вакуумная магнетронная напылительная система VSM-100
Вакуумная магнетронная напылительная установка VSM-100 использует плазменный разряд постоянного тока для магнетронного напыления тонких плёнок металлов (в частности: Ti, Cr, Au, Mo). В процессе напыления в системе работает один магнетрон или два магнетрона, возможно переключение магнетронов в процессе напыления с целью последовательного напыления 3-х металлов.
Россия, 614000, г. Пермь, ул. Букирева, 15корпус 1, ауд. 826Заведующий лабораторией: Анатолий Отрощенкотелефон: 239-65-46239-62-38239-65-24email: microfluidics@psu.ru
 124.  Установка магнетронного напыления ВМ2000М
Применяется в научном и образовательном процессе в качестве лабораторной базы
344006, г. Ростов-на-Дону, ул. Б. Садовая, 105/ 42, тел. : (863) 218-40-90, E-mail: inno@sfedu.ru
 125.  Установка электронно-лучевого напыления QPREP 500E (Mantis Deposition)
Напыление тонких пленок различных металлов (хром, никель, вольфрам, золото) в сверхвысоком вакууме на подложку диаметром до 150 мм или нескольких подложек диаметром 100 мм с использованием шлюзового устройства
Управление по взаимодействию с промышленностью (УВП) СПбГЭТУ. тел: (812)234-29-17 email: uvp@etu.ru, uvp. etu@gmail.com
 126.  Установка магнетронного распыления QPREP 500M (Mantis Deposition)
Напыление тонких пленок различных металлов и их нитридов (алюминий, титан, нитрид титана, нитрид алюминия) в аргоне и его смеси с азотом на подложку диаметром до 150 мм
Управление по взаимодействию с промышленностью (УВП) СПбГЭТУ. тел: (812)234-29-17 email: uvp@etu.ru, uvp. etu@gmail.com
 127.  Установка плазменного напыления УПУ-8М
Нанесение покрытий с различными свойствами.
Иванцивский Владимир Владимирович, e-mail: wwi08@ngs.ru, тел. 8(383) 346-17-97
 128.  Установка электронно-лучевого напыления ВАТТ — 300ЭЛ/ СВ
Установка предназначена для получения методом электронно-лучевого испарения высокочистых тонких пленок висмута на различных подложках в сверхвысоком вакууме. Точность задания толщины пленок 1 нм. Глубина вакуума от 10-5 до 10-9 мм. рт. ст. Температура подложки в процессе напыления от 293 до 573 К.
Адрес: 191186, Санкт-Петербург, набережная реки Мойки, д. 48, Телефон: 7 (812) 571-55-40, доб. 20-63, http: / / ckpo. herzen. spb.ru, ckpo@herzen. spb.ru
 129.  Автоматическая напылительная установка JEOL JFC-1600
Предназначена для напыления тонкого слоя металла на непроводящий образец и служит устройством пробаподготовки для растровой электронной микроскопии.
Гойхман Александр Юрьевич, тел. (401) 259-55-95, AGoikhman@innopark. kantiana.ru
 130.  Установка ионно-плазменного напыления в комплекте
Синтез тонкопленочных слоев, в том числе и наноструктурированных материалов, в частности, с помощью применения методики поочередного соосаждения нанослоев различных материалов при различных параметрах синтеза
Гойхман Александр Юрьевич, тел. (401) 259-55-95, AGoikhman@innopark. kantiana.ru
 131.  Напылительная установка Q 150T ES
Напыление образцов токопроводящими элементами. Применяется как устройство пробоподготовки для электронной микроскопии.
ЦКП НО Арктика, 163002, г. Архангельск, ул. Северодвинская, д. 14, тел. (8182) 21-61-00 (доб. 17-22), web: http: / / www. narfu.ru/ science/ ccu/
 132.  Установка типа Булат ННБ-6. 6-И1
Для напыления ионно-плазменных покрытий
 133.  Установка электронно-лучевого напыления: Orion-B
Вакуумная камера со смотровым окном; без масляная система откачки (без масляный спиральный насос со скоростью откачки не менее 30 м 3/ час и криогенный насос со скоростью откачки по азоту не менее 2500 л/ с); расположенный по центру камеры электронный луч TFI TELEMARK; съемный вращающийся нагреватель на 6 тиглей.
Мельников Роман Сергеевич Тел: 8-3822-510-316
 134.  Установка газодинамического напыления ДИМЕТ-403 (ОЦПН)
Предназначена для напыления покрытий на детали и другие технологические поверхности
 135.  Вакуумная установка ALD VIGA 2B для плавки и распыления порошков
Производит сверхчистую плавку и распыление жаропрочных и цветных сплавов, сталей различного состава для производства высококачественных металлических порошков
Анциферов Владимир Никитович, академик РАН, д. т. н. , профессор, тел. (342) 239-11-19, факс (342) 319-11-22
 136.  Установка магнетронного напыления с системой напуска газа и измерителем толщины покрытия VSM – 200
Вакуумная камера из нержавеющей электрополированной стали, камера без водяного охлаждения. Камера имеет D-форму (в поперечном сечении), плоскую дверь с вакуумным окном 100 мм и заслонкой окна, большое количество фланцев стандарта CF2. 75 для подсоединения приборов. Внутренний размер вакуумной камеры - 40х60 см. Расположение магнетронов в данной системе – внизу, напыление идёт на расположенную наверху подложку.
21-71-03, 65-22-92
 137.  Установка плазменно-дугового напыления
Установка предназначена для нанесения износостойких, жаростойких и коррозионностойких покрытий на детали разной конфигурации и размеров.
Российский государственный университет нефти и газа им. И. М. Губкина 119991, г. Москва, Ленинский просп. , д. 65, корп. 1 (499) 135-87-64, (499) 233-93-30 chens_nauka@mail.ru
 138.  Установка для отработки технологи напыления пленочных элементов УВН-2Ц
Установка УВН-2Ц предназначена для отработки технологи напыления пленочных элементов и схем на ситалловых и поликоровых подложках и серийного производства микросхем.
450076, г. Уфа, ул. Заки Валиди, 32 тел. 7(347) 229-96-46 7(347) 229-96-31
 139.  Комплекс БУФО
Повышение качества поверхности металлических изделий и поверхностное упрочнение
 140.  Специализированная установка для плазменного напыления
Плазменное напыление углеродных пленок (биосовместимых и сверхпрочных)
 141.  Компьютерный многофункционнальный прибор ПСХ-12
Определение удельной поверхности материалов
644080, г. Омск, проспект Мира, 5зав. лабораторией Парошкина С. М. (3812) 65-23-88
 142.  Блок литографического напыления TG2U
Нанесение покрытий методом напыления
450076, РБ, г. Уфа, ул. Заки Валиди, 32 тел. 7(347) 229-96-46 7(347) 229-96-31
 143.  Сверхвысоковакуумная напылительная системас магнетронными источниками
Получение многокомпонентных наноструктур из проводящих и непро- водящих материалов методом магнетронного осаждения
690600, г. Владивосток, ул. Суханова, 8 e-mail ognev. av@dvfu.ru 89242302008 Огнев Алексей Вячеславович
 144.  Имплантер экспериментальный
Применяется в научном и образовательном процессе в качестве лабораторной базы
 145.  Установка ионно-плазменного напыления (нанесения упрочненного покрытия)
Система ионно-плазменного напыления, обеспечивающая формирование различных пленочных систем в наноразмерном диапазоне.
Адрес: 191186, Санкт-Петербург, набережная реки Мойки, д. 48, Телефон: 7 (812) 571-55-40, доб. 20-63, http: / / ckpo. herzen. spb.ru, ckpo@herzen. spb.ru
 146.  Комплекс для плазменного напыления
Применяется для нанесения плазменных покрытий.
НИИ-204; Ответственный исполнитель - Богданович Валерий Иосифович; 7 корп. -525 комн. ; тел. 8(846) 267-46-31; bogdanovich@ssau.ru
 147.  Измерительно-калибровочная система для установки напыления металлов ВАК 501 Evatec, RLA-Tencor Alpha-Step 200
Позволяет производить калибровку кварцевой измерительной колонны установки ВАК 501 и обеспечивает проведение операций напыления всех установленных материалов
Небольсин Валерий Александрович, т. (473)256-04-65, vcmsao13@mail.ru
 148.  Установка плазменного напыления (наплавки) КПНФ-1
Упрочнение и восстановление рабочих поверхностей деталей машин
8(4832)510-356 Сканцев Виталий Михайлович
 149.  Установка напыления проводящих слоев на непроводящие образцы Spi-module control
Для точного дозирования и рубки стекловолокна и подачи его в факел напыляемой смолы
499-973-17-92